南昌美国 KYZEN MICRONOX MX2302DT 半水基溶剂型清洗剂 半导体级清洗剂
更新时间： 2024-09-15
MICRONOX MX2302DT 是一款半水基的清洗剂，专为要求更长清洗工艺时间的高铅应用而设计。MICRONOX MX2302DT拥有加强的金属保护技术，在不损伤基板的情况下延长清洗工艺时间。
MICRONOX MX2302DT易于使用，兼容所有的焊接材料，钝化层（聚酰亚胺、氮化物、二氧化硅、苯并环丁烯等等）和金属层。MX2302DT在所有的浸泡式清洗系统上都可直接使用并有效去除先进封装后的助焊剂和锡膏顽固残留物继而使用去离子水漂洗。MICRONOX MX2302DT 是一款可生物降解的，不易燃的，无腐蚀性的清洗剂，不含 CFC或HAP。
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MICRONOX MX2302DT易于使用，兼容所有的焊接材料，钝化层（聚酰亚胺、氮化物、二氧化硅、苯并环丁烯等等）和金属层。MX2302DT在所有的浸泡式清洗系统上都可直接使用并有效去除先进封装后的助焊剂和锡膏顽固残留物继而使用去离子水漂洗。MICRONOX MX2302DT 是一款可生物降解的，不易燃的，无腐蚀性的清洗剂，不含 CFC或HAP。
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